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均质分散技术
播放：1241 上传时间：2024-07-12超高压微射流均质技术，在CMP抛光液上的应用，诺泽流体 超高压微射流均质机;CMP 抛光液是化学机械抛光过程中使用的关键材料。超高压微射流均质机对 CMP 抛光液进行均质处理能够细化颗粒、均匀分散，避免颗粒团聚或成分分布不均，确保抛光过程的稳定性和一致性。有助于改善抛光液化学活性和物理性能，提高抛光效率。在实际应用中，需根据具体的 CMP 抛光需求和抛光液特性，选择合适的超高压微射流均质机，并优化相关工艺参数，以实现最佳的抛光效果。同时，还需注意设备的操作规范和维护保养，以确保其稳定运行和性能发挥。
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